テトラメチルチユラム•ジサニフアイド (TMTD), ジフエニルメタンと亜鉛華を1気圧の窒素雰囲気下で120°Cまたは140°Cで反応させ, 発生出るガス状成分と低沸点成分を真空系を利用して捕集し, 質量分析計にかけた. ガス状成分からは炭酸ガスとチオカーボニール (COS) を確認し, また両者の比率を知った. 低沸点成分からはジメチルアミン, モノメチルアミンと二硫化炭素を確認し, 三者の比率をえた. また第1報, 第2報と同様フラスコ内に残留する生成物のみならず, チオカーボニール, 炭酸ガス, 二硫化炭素を化学的にも分析した. 結論としてTMTDまたはそれからの生成物中のSと亜鉛華のOがつぎのように交換を行なった.
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二硫化炭素は (I) から発生し, COSは (II) から, また炭酸ガスは (III) から発生し, いずれもアミンの発生を伴う.