技術論文
黒鉛炉原子吸光法によるシリコンウェハー上金属薄膜中のナトリウムの高感度定量
2000 年 49 巻 8 号 p. 605-609
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2000 年 49 巻 8 号 p. 605-609
シリコンウェハー上金属薄膜中に微量に混入するNaを,簡便かつ高感度に分析する方法を報告する。希薄なHFをベースとした混合液でLSIの配線材料となるAlSiCu膜,Ti膜,WSi3膜を溶解,回収し,液中のNaを黒鉛炉原子吸光法で分析した。希フッ化水素酸をベースとする混合液を溶解液に用いることによって膜を溶解後,ウェハー表面を疎水化し,容易に液滴を回収できるようにした。Naの検出限界は各々の膜に対して(3～4)×1015atoms cm-3であり,回収率はNa,及び膜材料のAl,Ti,Wに対して99%以上であった。
