放射光X線光電子分光を用いたTiAl表面酸化反応の研究

橋之口 道宏; 角本 雄一; 戸出 真由美; Harries James; 岡田 美智雄; 寺岡 有殿; 笠井 俊夫

doi:10.14886/sssj2008.30.0.165.0

真空・表面科学合同講演会
（第30回表面科学学術講演会・第51回真空に関する連合講演会）
日本真空協会・社団法人日本表面科学会

セッションID: 4P-077

DOI https://doi.org/10.14886/sssj2008.30.0.165.0

会議情報

主催: 日本真空協会、社団法人日本表面科学会

11月4日（木）

放射光X線光電子分光を用いたTiAl表面酸化反応の研究

*橋之口道宏, 角本雄一, 戸出真由美, Harries James, 岡田美智雄, 寺岡有殿, 笠井俊夫

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抄録

本研究では、超熱酸素分子線と放射光光電子分光を用いて、TiAl表面酸化反応を調べた。酸化の効率は、入射する酸素分子の並進エネルギーの増加に伴い減少した。また、反応により生成したAl₂O₃、Ti₂O₃やTiO₂等の酸化物の生成比は、並進エネルギーに影響されないことが示された。これらの結果は、酸素分子が表面に分子状吸着した後に解離する、前駆体を経由する過程で主に反応が進行していることを示唆している。

責任著者(Corresponding author)

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