11月8日（月）
低エネルギー電子ビームによるナノスケール構造物の作製・分析のための装置開発
詳細
スポット径を1μm以下に収束させた低速電子線(200~2000eV)を用いて表面ナノ・メゾスケール構造物の作製とその局所的な電子状態を測定するための超高真空装置を構築した。構築した装置を用い、電子刺激脱離により鉄ドットを作製した。作製した単一ドットに対し、SEMによる表面実空間像観察、AESによる組成分析、EELSによる表面電子状態分析を行うことができることを確認した。
