日本表面真空学会学術講演会要旨集
Online ISSN : 2434-8589
2020年日本表面真空学会学術講演会
セッションID: 1P21
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11月19日
Si(551)表面のW-RHEEDとSTMによる構造解析
内藤 完中塚 聡平小川 修一*虻川 匡司江口 豊明服部 賢服部 梓黒田 理人
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抄録

3次元構造のトランジスタFinFETの側面は、想定された(110)面ではなく(551)面で形成されていることが報告されているなど、(551)は安定な表面と予想される。一方でSTMの研究ではSi(551)面は、{20,23,4}ファセットから構成されているとの報告もある。そこでSi(551)基板を超高真空中で加熱清浄化し、その表面構造をワイゼンベルグ反射高速電子回折法とSTMを用いて観察を行った。

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© 2020 日本表面真空学会学術講演会
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