本研究では, ヘキサフルオロブチルメタクリレート (n-C4F6) を収着させたポリ [1- (トリメチルシリル) -1-プロピン] (PMSP) 膜への紫外線照射およびγ線照射による改質膜の気体透過性・分離性およびその膜構造の相違についての研究を行った. 紫外線照射改質膜, γ線照射改質膜のいずれにおいても, 気体透過性は低下するものの気体分離性は向上した. 紫外線照射改質膜ではn-C4F6モノマーの膜内含有量を調節することによりこれらの透過性・分離性を制御することが可能であった. また, これらの膜は膜厚方向に非対称な構造を有していた. 一方, γ線照射改質膜は膜厚方向に均一な構造を有し, 同程度のn-C4F6モノマー含有量であっても紫外線照射改質膜よりも高透過性・低分離性を示した. これらの相違は紫外線とγ線のエネルギー透過力による改質膜の構造の違いにより生じ, これらが透過性および分離性に大きく寄与しているものと考察した.