マルチホロー放電プラズマCVDを用いて作製したカーボンナノ粒子輸送量に対する電極基板間距離の効果

古閑 一憲; Hwang Sung Hwa; 奥村 賢直; Hao Yuan; 山下 大輔; 松尾 かよ; 板垣 奈穂; 鎌滝 晋礼; 白谷 正治

doi:10.11527/jceeek.2020.0_134

2020年度電気・情報関係学会九州支部連合大会（第73回連合大会）講演論文集

セッションID: 02-1P-03

DOI https://doi.org/10.11527/jceeek.2020.0_134

会議情報

主催: 電気・情報関係学会九州支部連合大会委員会

会議名: 2020年度電気・情報関係学会九州支部連合大会

回次: 73

開催地: オンライン開催（大会本部：九州産業大学）

開催日: 2020/09/26 - 2020/09/27

マルチホロー放電プラズマCVDを用いて作製したカーボンナノ粒子輸送量に対する電極基板間距離の効果

*古閑一憲, Hwang Sung Hwa, 奥村賢直, Hao Yuan, 山下大輔, 松尾かよ, 板垣奈穂, 鎌滝晋礼, 白谷正治

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抄録

プラズマは、不純物を抑制したナノ粒子の作製法として注目を集めている。現在までにマルチホロー放電プラズマCVD法を用いてサイズ制御したナノ粒子の連続作製に成功した。ナノ粒子の応用では、基板等への堆積が必要であり、プラズマから基板へのナノ粒子輸送機構の解明が重要である。今回は、カーボンナノ粒子の輸送に対するプラズマ生成電極から基板までの距離の影響を調べた結果、電極基板間の勾配による熱泳動力と電極からの立体角が重要であること、加えてナノ粒子とラジカルのフラックスバランスにより、ラジカル堆積が大きいときはナノ粒子堆積が見られないことを明らかにした。

責任著者(Corresponding author)

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