主催: 公益社団法人精密工学会
大阪大 工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
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Si熱酸化膜は，優れた界面特性を有することから高効率結晶Si太陽電池のパッシベーション膜として用いられている．しかし，熱酸化プロセスは800～900℃の高温で行われるためプロセスの低温化が望まれている．そこで，我々は大気圧プラズマ酸化によるSiO2の低温・高速形成について研究を行っている．本報ではキャリアガスにArを用いて形成したSiO2の酸化特性および界面特性を調べた結果について報告する．
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