主催: 社団法人精密工学会
静岡大学 大学院 工学研究科
エスアイアイ・ナノテクノロジー ビームテクノロジー総括部
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現在、原子間力顕微鏡のスクラッチ加工を用いた、フォトマスク修正装置が開発されている。しかし従来のAFMを用いたスクラッチ加工では、切削加工により発生する加工粉が、加工部およびプローブ先端に付着し残留することが問題である。我々はこの加工粉を除去する方法として、電気泳動を用いた除去法を開発しこれまでに報告してきた。本報告では、これらの技術に加え、液体を循環するシステムにおける加工粉除去効率の向上について報告する。
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