スギなどの針葉樹の着花促進を目的に使用されているジベレリン3（GA₃）に対して、ヒノキの花成応答性は極めて低い。そのため、ヒノキにおいてGA₃に代わる簡便で効果的な着花技術の開発が求められている。昨年度までの結果、GA_4/7（GA₄とGA₇の混合）に対してヒノキは花成応答するものの、その応答性には系統間差があることが明らかになった。なぜヒノキはGA₃ではなくGA_4/7に強い花成応答を示すのだろうか？また、GA_4/7に対する花成応答性の系統間差の原因は何なのだろうか？これらの問いに答え、効果的な着花促進技術を開発するためには、ヒノキの花成応答のメカニズムを理解することが重要である。そこで我々は、ジベレリンに対するヒノキの花成応答のメカニズムを理解することを目的に遺伝子発現解析を進めている。本研究では、6月～8月にかけてジベレリン水溶液を葉面散布し、これによって誘導される花成関連遺伝子の発現量と着花量との関係について解析した。