ALD成長によるZnOの平坦薄膜成長条件の調査

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第80回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 18p-PB5-17

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.2.0_3974

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 80

開催地: 北海道大学札幌キャンパス

開催日: 2019/09/18 - 2019/09/21

ALD成長によるZnOの平坦薄膜成長条件の調査

*山本燎, 加納寛人, 中村篤志, 居波渉

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キーワード: 18p-PB5-17, 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」, 薄膜成長, 原子層堆積法, ZnO薄膜

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