PVA犠牲層を利用した転写プロセスによる伸縮性プラズモニックカラーフィルタの作製

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第66回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 9p-W621-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.1.0_988

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 66

開催地: 東京工業大学大岡山キャンパス

開催日: 2019/03/09 - 2019/03/12

PVA犠牲層を利用した転写プロセスによる伸縮性プラズモニックカラーフィルタの作製

*熊谷隼人, 高橋功, 武岡真司, 澤田和明, 藤枝俊宣, 髙橋一浩

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キーワード: 9p-W621-4, 光・フォトニクス, ナノ領域光科学･近接場光学, プラズモニクス, 表面プラズモン, カラーフィルタ, ナノシート

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