TSV用新規バリヤ材料としてのHfN<sub>x</sub>膜の特性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第60回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 30a-G6-7

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2013.1.0_2664

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 60

開催地: 神奈川工科大学

開催日: 2013/03/27 - 2013/03/30

TSV用新規バリヤ材料としてのHfN_x膜の特性

*佐藤勝, 武山真弓, 野矢厚

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キーワード: 30a-G6-7, 半導体A（シリコン）, 配線技術, バリヤ

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