応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第59回春季応用物理学関係連合講演会
セッションID: 16p-GP5-4
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 春季応用物理学関係連合講演会

回次: 59

開催地: 早稲田大学

開催日: 2012/03/15 - 2012/03/18

Te化法によるGeSbTe膜の高アスペクト比ホール内組成制御
*須田 耕平, 堀池 喬文, 浜田 せいち, 宇納 知寛, 町田 英明, 石川 真人, 須藤 弘, 有馬 進, 河野 有美子, 大下 祥雄, 小椋 厚志
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キーワード: 16p-GP5-4, 半導体A（シリコン）, Siプロセス技術, Te化法
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© 2012 公益社団法人 応用物理学会
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