原子状酸素照射時におけるSi添加高水素DLC膜からの揮発性反応生成物脱離

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第72回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 30p-K-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.2.0_1163

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 72

開催地: 山形大学

開催日: 2011/08/29 - 2011/09/02

原子状酸素照射時におけるSi添加高水素DLC膜からの揮発性反応生成物脱離

*田川雅人, 横田久美子, 岸田和博, 古山雄一, 戸出真由美, 吉越章隆, 寺岡有殿, Timothy K. Minton

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キーワード: 30p-K-6, ビーム応用, ビーム・光励起表面反応, DLC, 宇宙環境, 原子状酸素

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