液膜／基板系における照射加熱問題の数値計算法

佐伯 文浩; 福井 茂寿; 松岡 広成

doi:10.11345/japannctam.60.0.249.0

第60回理論応用力学講演会

セッションID: GS03-02

DOI https://doi.org/10.11345/japannctam.60.0.249.0

会議情報

主催: 日本学術会議　機械工学委員会・土木工学・建築学委員会　合同IUTAM分科会

共催: 日本機械学会, 日本気象学会, 日本地震工学会, 日本物理学会, 農業農村工学会, 応用物理学会, 化学工学会, 地盤工学会, 土木学会, 日本応用数理学会, 日本風工学会, 日本計算工学会, 日本建築学会, 日本原子力学会, 日本航空宇宙学会, 日本材料学会, 日本数学会, 日本船舶海洋工学会, 日本伝熱学会, 日本流体力学会, 日本レオロジー学会

GS03 数値計算法・数理解析

液膜／基板系における照射加熱問題の数値計算法

*佐伯文浩, 福井茂寿, 松岡広成

著者情報

キーワード: 薄膜方程式, 熱方程式, 半陰解法, 近似因数分解, ADI法

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抄録

我々は、固体基板とその上に広がる液体薄膜からなる系の照射加熱問題に対して、空間次元が互いに異なる2つの偏微分方程式、つまり、液面形状の時間発展を記述する薄膜方程式と基板の熱方程式を連成した数理モデルを提案している。本研究では、このモデルの数値計算法について論じる。我々は、時間の離散化には半陰解法を用いて、方程式が空間多次元の場合には近似因数分解に基づくADI法を組み合わせ、空間の離散化には有限体積法を用いる。離散化された方程式系は古典的なLU分解法を用いて容易かつ効率的に解くことができる。

責任著者(Corresponding author)

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