溶液中における金表面へのチオフェンの吸着反応

佐古 恵理香; 近藤 寛; 中井 郁代; 中村 徹; 南部 英; 太田 俊明

doi:10.14886/sssj.25.0.35.0

第25回表面科学講演大会

セッションID: P20

DOI https://doi.org/10.14886/sssj.25.0.35.0

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主催: 日本表面科学会

11月17日（木）

溶液中における金表面へのチオフェンの吸着反応

*佐古恵理香, 近藤寛, 中井郁代, 中村徹, 南部英, 太田俊明

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抄録

その応用性が注目されているチオフェン（C₄H₄S）でも特に、基板上に分子を規則正しく配向させることができるチオフェン自己組織化膜（SAM）に関する基礎的な情報は重要である。しかしその吸着構造に関しては不明な点が多く、成膜法の違いによって薄膜の構造が変化している可能性も示唆された。そこで本研究では、湿式法によって金基板上のチオフェンSAMを作成し、XPS、NEXAFSスペクトルを測定することからその吸着構造を考察した。

責任著者(Corresponding author)

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