表面と真空
Online ISSN : 2433-5843
Print ISSN : 2433-5835
特集「二次元層状物質の成長とその場評価―真空・表面技術による高品質薄膜の実現を目指して―」
分子線エピタキシー法による二次元層状物質の結晶成長
北浦 良
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2019 年 62 巻 10 号 p. 605-610

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抄録

Two-dimensional (2D) materials, including graphene, hexagonal boron nitrides, transition metal dichalcogenides (TMDs), and their heterostructures, have recently attracted a great deal of attention. Various 2D materials can respond to external stimuli differently, which leads to novel physical properties and possible high-performance device applications. To push forward the 2D-material-based science and technology, application of advanced thin-film growth techniques, such as molecular beam epitaxy, is indispensable. In this paper, I focus on the present status and future prospects of MBE growth of TMDs.

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