题名：高还原活性多孔NiO制备工艺的研究

作者：屈彦杰;钟武烨;郑剑平;郭志猛;

来源：

出版机构：同方知网（北京）技术有限公司

出版年:

DOI码：10.13228/j.boyuan.issn1006-6543.20200098

注册时间：2021-06-28 10:22:15

以下是您获得的URL地址： https://link.cnki.net/doi/10.13228/j.boyuan.issn1006-6543.20200098(境内) https://link.oversea.cnki.net/doi/10.13228/j.boyuan.issn1006-6543.20200098(境外)