加速電圧150kVによる厚膜レジストへの電子ビームリソグラフィとその断面形状への影響

杉原 達記; 金子 新

doi:10.11522/pscjspe.2021A.0_476

2021年度精密工学会秋季大会

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2021A.0_476

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主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2021年度精密工学会秋季大会

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/09/21 - 2021/09/27

加速電圧150kVによる厚膜レジストへの電子ビームリソグラフィとその断面形状への影響

*杉原達記, 金子新

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キーワード: 電子ビームリソグラフィ, ナノ加工, 加速電圧, 電子線レジスト, コントラストγ, モンテカルローシミュレーション

会議録・要旨集フリー

p. 476-477

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抄録

厚膜レジストを用いた電子ビームリソグラフィについて加速電圧に着目して調査している．1.6µm厚の高γレジストを用いた場合，150kVでのレジスト断面形状はほぼ垂直で線幅の広がりは最大でも35nmだった．一方，50kVでは最大で155nm広がり雫のような形状となった．トップの線幅は高γレジストの方が低γレジストよりも小さかった．これらの結果をモンテカルロシミュレーションの結果を交えて考察した．

責任著者(Corresponding author)

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