UVナノインプリント法を用いたマイクロニードルの複製工程におけるPFPガスの影響評価

濱田 浩輝; 鈴木 昌人; 高橋 智一; 青柳 誠司

doi:10.11522/pscjspe.2021A.0_262

2021年度精密工学会秋季大会

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2021A.0_262

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2021年度精密工学会秋季大会

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/09/21 - 2021/09/27

UVナノインプリント法を用いたマイクロニードルの複製工程におけるPFPガスの影響評価

*濱田浩輝, 鈴木昌人, 高橋智一, 青柳誠司

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キーワード: マイクロニードル, UVナノインプリント

会議録・要旨集フリー

p. 262-263

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抄録

我々は3次元光造形法によりマイクロニードルの原型を作製し、これをUVナノインプリント法により転写する手法について研究してきた。この研究ではステップ・アンド・リピート法と呼ばれるインプリントを連続で繰り返す手法により転写速度の向上を図っているが、この際に転写不良が発生することが問題になっていた。そこで，本研究ではインプリント時にペンタフルオロプロパン（PFP）ガスを利用することで転写精度の向上を図る。

責任著者(Corresponding author)

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