各種UV硬化性樹脂に対する低残膜ナノインプリント転写とその応用

上田 大貴; 谷口 淳

doi:10.11522/pscjspe.2019S.0_544

2019年度精密工学会春季大会

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2019S.0_544

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主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2019年度精密工学会春季大会

開催地: 東京電機大学

開催日: 2019/03/13 - 2019/03/15

各種UV硬化性樹脂に対する低残膜ナノインプリント転写とその応用

*上田大貴, 谷口淳

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キーワード: ナノインプリントリソグラフィ, 液体分離方式インプリント, 高粘度UV硬化性樹脂

会議録・要旨集フリー

p. 544-545

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抄録

ナノインプリントリソグラフィは微細なパターンを作製することができるが、UV硬化性樹脂のパターンと基板の間に残膜という余分な樹脂層が生じる。今回残膜の除去方法として、剥離によって余剰なUV硬化樹脂を取り除く液体分離方式インプリントリソグラフィ(LTIL)とロールプレスを組み合わせ使用した。そして、粘度が異なる2900から30000 mPa・sの高粘度UV硬化樹脂を用いて低残膜化を行った。

責任著者(Corresponding author)

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