主催: 公益社団法人精密工学会
大阪大 大学院工学研究科附属超精密科学研究センター
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単結晶ダイヤモンド基板の高品位・高能率な研磨プロセスとして,大気雰囲気で直流パルス電源を用いたプラズマ照射を援用した研磨法の適用を検討した.プラズマ照射しながら100分間研磨した場合の基板温度は75℃以下だった.プラズマを照射せずに基板を100℃に加熱し同時間研磨した場合の加工痕深さは,プラズマ援用研磨時の25%程度で,加工量増大には熱流入の影響だけでなく,プラズマからの紫外線やラジカルによる影響が考えられる.
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