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タイトル: ミストCVD法とその酸化亜鉛薄膜成長への応用に関する研究
著者: 川原村, 敏幸  KAKEN_name
著者名の別形: Kawaharamura, Toshiyuki
キーワード: ZnO
ミスト法
超音波噴霧
CVD
ファインチャネル
薄膜成長
成長メカニズム
噴霧技術
発行日: 24-Mar-2008
出版者: 京都大学 (Kyoto University)
学位授与大学: 京都大学
学位の種類: 新制・課程博士
取得分野: 博士(工学)
報告番号: 甲第13825号
学位記番号: 工博第2929号
学位授与年月日: 2008-03-24
請求記号: 新制||工||1433(附属図書館)
整理番号: 26041
研究科・専攻: 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
論文調査委員: (主査)教授 藤田 静雄, 教授 三浦 孝一, 教授 川上 養一
学位授与の要件: 学位規則第4条第1項該当
DOI: 10.14989/doctor.k13825
URI: http://hdl.handle.net/2433/57270
出現コレクション:090 博士(工学)

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